Réacteurs CVDiam® HFCVD
La gamme complète de réacteurs CVDiam® HFCVD de NeoCoat remplis tous les besoins clients gràce à différentes capacités de dépôt pour des applications à l'échelle laboratoire, de production en grandes séries, pour des applications industrielles ou des projets R&D.
De l'étude de vos besoins à l'installation sur site, nous construisons un projet dédié avec vous et nous vous offrons une solution complète et professionnelle :
- Equipement HFCVD avec porte-substrat personnalisé
- Procédés détaillés et documentés
- Installation dans votre site de production
- Formation
- Support technique (maintenance et procédé)
Spécifications
| CVDiam | HF 60 | HF 120 |
| Disposition (mm) H x L x l | 2000 x 2200 x 1500 | 2000 x 3700 x 1500 |
| Puissance maximale de dépôt (KW) | 60 | 120 |
| Surface de dépôt (mm) L x l | 400 x 580 | 400 x 1180 |
- HF60 est le réacteur le plus adapté pour les outils de coupe grâce à une large porte en face avant qui facilite le chargement des posages
- HF120 a été designée pour les substrats de grandes dimensions
Les réacteurs CVDiam® HF peuvent être utilisés soit avec des filaments de tantale ou de tungstène en fonction de vos applications
Les réacteurs avec les procédés NeoCoat® (prétraitement et revêtement) peuvent être utilisés pour fabriquer des couches de diamant avec différentes spécifications : NCD (nanocristallin) – MCD (microcristallin) – différentes épaisseurs
Composants principaux
Nos réacteurs à filament chaud CVDiam® sont composés de pièces de qualité provenant des principaux fournisseurs de composants du vide ou conçus/usinés dans des ateliers suisses :
- Système de maintien et de tension des filaments à l'horizontal
- Alimentation électrique DC,
- Cuve double paroi en acier inoxydable,
- Panneau de gaz (H2, CH4, N2, autres),
- Système de pompage et de réglage de pression,
- Automate,
- Ecran tactile et PC industriel (Windows 11),
- Interface graphique,
- Circuit de refroidissement avec échangeur thermique indépendant,